潔凈室的空調(diào)除了應該滿足產(chǎn)品需求的溫濕度條件外，對工作者的舒適度和空氣潔凈度等度均應該顧慮到，其他如能源消耗、防震及噪音控制也是考慮因素。

潔凈室的潔凈度的能否維持在要求之規(guī)范內(nèi)，空調(diào)系統(tǒng)扮演了主要的角色，因而KLC潔凈室的空調(diào)系統(tǒng)有著與一般空調(diào)系統(tǒng)的不同特征，分述如下：

1.溫濕度要求比一般空調(diào)低：一般空調(diào)系統(tǒng)溫度要求在25°~27℃間，相對濕度則在55~77%;而潔凈室空調(diào)分別為22~23℃及40~45%，50~60%。

2.對空氣質(zhì)量要求較嚴格：一般空調(diào)除了溫濕度要求是比潔凈室空調(diào)較彈性外，在微塵粒子之過濾和Na離子之處理，潔凈室空調(diào)均應該加以考慮要求?！撅L淋室】

3.恒溫恒濕控制：由于制程產(chǎn)品制程對溫，濕度變化的大小極為敏感，故在潔凈室空調(diào)中部份區(qū)域須控制在0.1℃和1~2%RH的范圍內(nèi)。

4.全外氣量與換氣次數(shù)大：在半導體工廠中，制程系統(tǒng)須使用大量的化學品和毒氣，而這些化學品與氣體所產(chǎn)生的些揮發(fā)氣和廢氣應該予全數(shù)排除，故其排氣量相當大，尤其是在化學工作站更甚，加上為維持空氣之質(zhì)量和安全，故半導體潔凈室空調(diào)系統(tǒng)一般均不回風，而全以外界新鮮空氣補R入系統(tǒng)中，故換氣次數(shù)相對增加，方能符合溫，濕度及潔凈度等級的需求。

5.空調(diào)系統(tǒng)24小時全天候運轉(zhuǎn)：半導體工廠，部份制程設備其對溫，濕度的要求相當敏感如步進曝光機等光學儀器，些微的溫，濕度變化均會造成設備的*準度偏差，另外芯片等產(chǎn)品也應該置放在定溫定濕的環(huán)境下，加上工廠均是24小時輪班作業(yè)，故空調(diào)系統(tǒng)也應該24小時甚至可說是全年無休(除了電力工司停電外)運轉(zhuǎn)，而一般空調(diào)則可視工作人員的上班狀況機動調(diào)整，因此半導體空調(diào)負荷為一般空調(diào)的4~5倍。

6.氣流分怖需均勻：潔凈室空調(diào)為帶走潔凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子，以維持潔凈度，故除了氣流速度須達一定之要求標準外，氣流的形狀也應該依不同的潔凈室等級而加以適當?shù)目刂啤?/p>

7.運轉(zhuǎn)成本相當高：由于潔凈室熱負荷相當大，又是全外氣供氣，循環(huán)風量亦甚可觀，故總加成之后的空調(diào)運轉(zhuǎn)費用也水漲船高。不只是初期設備的投資成本高，日后的運轉(zhuǎn)及維護費用也相當高，依據(jù)數(shù)據(jù)顯示，半導體廠，單位面積的耗電量為6”晶圓廠：約1.35Kw/m2，而8”廠則高達約1.9Kw/m2。除了以上的特性外，潔凈室的空調(diào)須與鄰室維持適當?shù)膲翰睿核惋L溫度與室內(nèi)溫度差距小等亦均為其特性。

8.外氣需要量計算：潔凈室空調(diào)前已提及是以全外氣供應，而外氣需要量的多寡將受如下的因素所影響：(1)制程排氣量;(2)間隙外泄量;(3)開門外泄量;(4)健康要求量。即外氣需要量(Q1)≧制程設備排氣量(q1)+間隙外泄量(q2)+開門外泄量(q3)外氣需要量=排氣量+10%排氣量(泄漏量)+0.5%循環(huán)空氣量≒8~10%循環(huán)空氣量

9.空調(diào)箱(AirHandlingUnit)之選擇：設計及選擇適當?shù)目照{(diào)箱及組合，將可收系統(tǒng)運轉(zhuǎn)的良好效果。圖為超潔凈用空調(diào)箱系統(tǒng)圖。